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沈阳科晶 UNIPOL-1200D型 双盘压力研磨抛光机
仪器概述:
UNIPOL-1200D型 双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域,广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样等材料样品的自动研磨抛光,以及工厂的小规模生产等。该机设有两个研磨抛光工位,可以分别进行研磨、抛光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。
一、主要特点:
1、设有两个研磨抛光工位,可分别进行研磨、抛光操作。
2、中心加载压力,压力稳定可靠。
3、性能优良,操作简单,适用范围广。
二、主要技术参数:
1、电源:220V 50Hz
2、载物盘:Φ150mm
3、桃型孔:Φ25.4mm
4、磨抛盘:Φ300mm
5、载物盘(上盘)转速:10rpm-80rpm(无级调速)
6、磨抛盘(下盘)转速:50rpm-400rpm(增量调速,最小增量10)
7、压力:0.5-20kg(最小增量0.5kg)
8、机器尺寸:880mm×660mm×800mm
9、机器重量:105kg
三、标准配件:
1、铸铝盘 2个
2、平载物盘 1个
3、桃型孔载物盘 1个
4、磁力片 4片
5、研抛底片 6片
6、砂纸(240#、400#、800#、1500#) 各2片
7、抛光垫(磨砂革、合成革、聚氨酯) 各2片
8、研磨膏(W2.5) 1支
四、可选配件:
1、SKZD-2滴料器
2、SKZD-3滴料器
3、SKZD-4自动滴料器
4、YJXZ-12搅拌循环泵
5、“00”级精密测厚仪
6、GPC-50A精确磨抛控制仪
7、陶瓷研磨盘
8、玻璃研磨盘
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